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“诶?怎么,您那边又进来了很多的新人嘛?”江夏捕捉到了听筒里传来的细微嘈杂声和议论声,有些不解的扣扣脑袋。
以前去兰英博士那边的时候,研究员们可喜欢和他一起写点歪诗了,咋今天听到的话,有些不对劲嘞。
“唉,你呀……是不是光顾着激动,把自己写的《半导体集成电路生产工艺流程(草案)》都给忘了?”
“啊?”江夏一愣。
兰英博士的声音带着一丝调侃:“你自己说的,要做成一片能用的芯片,光有光刻机可不够!”
“我说的嘛?”江夏掏出自己的笔记本,在上面狠翻了一阵子,“啊,想起来了。除了光刻机还有扩散炉和真空蒸镀设备嘛!”
“不过,后面两个设备我不还没进行工艺改进的嘛?”江夏在笔记本上翻腾了一圈后喃喃自语,确认这两个设备他还只写了个名称和大致要求。
兰英博士的话继续传来:“为了尽快做出第一批验证芯片,我把能借调的人都借调来了!
某精密仪表厂负责扩散炉温控系统的,东北器材设备厂负责蒸镀腔体密封的,还有材料所研究高纯气体和金属靶材的……
实验室都快挤成罐头了!大家伙儿都在加班加点,就等着光刻机这边‘画’好图,好接力往下做呢!”
江夏有点目瞪口呆,原想着先把光刻机理顺了再去捣鼓后续的设备,哪能想到兰英博士她们的主观能动性如此强悍,居然硬生生凑齐了低集成度芯片制备的“三驾马车”!
嗯,是的。聪明的你指定发现了,这套工艺除了小呆毛说的三种主要设备,还少了个离子注入机还有化学气相沉积机,外加一整套的测试设备,比如检测芯片的电性能、信噪比、功耗等……
但是,我们的小呆毛大手一挥,把后面的几种全给精简了一下。
别怪他这么“抠门”。谁不想用最好的?
离子注入的核心是将杂质离子(如硼、磷)加速到数千甚至数万电子伏特的高能状态,穿透硅表面实现精准掺杂。
单单是提供稳定的高能电场这一项,以目前的条件就近乎天方夜谭,更别提产生高纯度离子束了。
但是!嘿嘿嘿,扩散炉可以暂时顶上!它不需要复杂的能量加速,依靠纯粹的热运动就能实现掺杂。
反正现在的芯片也就百来个晶体管,器件尺寸在微米级,对掺杂深度和浓度的误差容忍度相对较高。热扩散精度虽有限,但搭建早期简单逻辑门,够用了!
至于化学气相沉积?还是用扩散炉啊!虽然需要手动精细控制气体阀门,反应生成的薄膜直接沉积在炉管内的硅片上。
满足小规模集成电路对绝缘层和导电层的基本需求,绰绰有余!
现在,不追求完美,只追求能用!
小呆毛的信条就是——“不求最合适,但求能使用!”
合理吗?简直太合理了!
“这么说,要是光刻机上线了,那我们就能生产出芯片了?”
江夏痛苦的哀嚎。
第一枚芯片啊,想想这么重要的时候,自己居然不能在现场,小呆毛已经悲伤的开始对着红木桌子“梆梆梆……”
“诶!咋就不多问一嘴哪!自己对‘芯片’这块是不是有点不上心了……”
确实是这样,由于有一众大神的存在,忙碌的江夏确实没对自己规划的ps技术研究进度进行过多的干预。
不过,这意外的“偷懒”,某种程度上竟成了歪打正着的“神来之笔”?
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