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第489章 顺利签约（第2页）

接下来才是英特尔和麒麟资本。

在asml总部见到埃里克之后，双方也没有过多寒暄。

来到会议室，齐舟拿出一份精心准备的文件放在桌上，“签约完成后，你们就可以开始验证。”

埃里克和其他几位高层对视一眼，深呼吸一下，随后将一份打印好的合同推到齐舟面前。

“齐，这是打印出来的意向合同，麻烦核对一下。”

“好的。”

齐舟将意向合同递给身后的陈月，这次的法务团队是由她率队。

拿到合同，陈月与几位精通国际法的法务人员，迅速研究起来。

一番闲聊过后，埃里克随即邀请齐舟对asml总部进行参观。

还亲自带齐舟去看了一眼浸润式光刻机的样机。

一个多小时后，陈月终于打来电话，合同确认无误，可以签约。

齐舟随即返回会议室，在双方工作人员的见证下，将合同签完。

“齐，验证需要一段时间，我已经安排好向导，带你们好好游览一下欧洲的风光。”

埃里克一脸兴奋的说道。

齐舟敢签合同，说明他的办法肯定行之有效。

对asml来说，这是最好的结果。

“多谢，我也正好有此打算。”

齐舟一脸笑容的与埃里克等人一一握手，等他们验证完结果，自己再注资asml。

之后，大家就算是合作伙伴了。

大夏也能秘密引进浸润式光刻机，推动自主芯片产业的发展。

……

将齐舟一行人送到预定好的酒店，埃里克便迫不及待地返回公司。

“埃里克，齐提供的资料，确实很有想法。”

研发部的负责人德莱斯拿着那份文件，兴奋的迎了上来。

“哦，具体说说看。”

埃里克对此也很期待，但他不是技术人员，对文件的内容不是很理解。

“简单来说，研究euv光刻机，首先遇到的难题是光源的功率和稳定性……”

德莱斯翻开文件，指着其中一项内容解释道。

顾名思义，euv光刻机使用的是极紫外光，并且需要的是能产生波长13.5纳米的极紫外光。

目前可以采用激光轰击液态锡靶产生等离子体的方式生成euv光。

但能量转化效率极低，仅有约0.02%的激光能量能转化为可用的euv光。

想要实现量产，则要求光源功率达到250瓦以上，并且必须保持稳定，否则会导致曝光剂量不均，影响芯片良率。

齐舟提供的解决办法是，通过优化激光参数、锡滴相关参数以及反光镜周围的气体环境来提高光源功率。

这一点，以德莱斯为首的研发人员其实都知道。

但文件中所提到的，将锡滴体积减半，减少锡滴管消耗及椭球反光镜污染的办法，在他们看来却是极其大胆。

同时齐舟还提示，需要降低更换频率，同时保证每次激光轰击产生的euv能量不降低。

再通过调整二氧化碳激光功率、氢气流量和压力等参数，找到最佳组合，防止反光镜雾化，提高光源稳定性。

这个办法，让德莱斯眼睛大亮，虽然还没开始验证，但心中已经有所预感。

按照这样的步骤实验下去，或许真的可以实现。

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